ГОСТ ISO/TS 80004-8—2016
П р и м е ч а н и е — Настоящее определение не исключает наличия у нанообьекта (2.5) внутренней или по
верхностной структуры. Рекомендуется применять термин «нанообьект» к элементу наноструктурированного
материала, если его линейные размеры по одному, двум или трем измерениям находятся в нанодиапазоне.
[ISO/TS 80004-4:2011. статья 2.11)
2.9
нанотрубка:
Полое нановолокно (2.3).
[ISO/TS 27687:2008. статья 4.4)
nanotube
3 Термины и определения основных понятий, относящихся
к процессам нанотехнологического производства
3.1
нанотехнологическое производство «снизу вверх»:
Технология, основан
ная на применении атомов, молекул и/или нанообъектов в качестве исходного ма
териала для формирования более крупных и функционально сложных структур
или конструкций различных объектов.
bottom up
nanomanufac
turing
3.2
соосажденио:
Осаждение одновременно двух или более исходных материа
лов.
co-deposition
П р и м е ч а н и е — К основным методам соосаждения относят: вакуумное напыление, термическое напыле
ние. электроосаждение и осаждение твердых частиц суспензии.
3.3 истирание: Процесс дробления или измельчения исходного материала с це
лью уменьшения размеров его частиц.
communition
3.4 направленная сборка (нанотехнологии): Процесс формирования конструкций
объекта в соответствии с заданным шаблоном, основанный на применении управ
ляемых внешних воздействий к исходным нанообъектам.
directed
assembly
3.5 направленная самосборка: Процесс самосборки (3.11) в соответствии с за-
данным шаблоном, происходящий под управляемыми внешними воздействиями.
directed
self-assembly
П р и м е ч а н и е — Процесс направленной самосборки может происходить под действием приложенного си
лового поля, сил потока жидкости, введенного в исходное вещество химического реагента или по заданному
шаблону.
3.6 литография: Процесс формирования структуры объекта или рельефного изо- lithography
бражения путем воспроизведения заданного шаблона на подложке.
П р и м е ч а н и е — Шаблон изготавливают из материала, чувствительного к излучению, и осуществляют
его перенос на подложку для формирования нужной структуры методами контактной печати или прямой
записи.
3.7 многослойное осаждение: Процесс получения композиционных материалов
со слоистой структурой путем последовательного осаждения на подложкудвух или
более исходных материалов.
multilayer
deposition
3.8 нанотехнологическое изготовление: Совокупность действий, направленных
на преднамеренное изготовление объектов, устройств или их элементов, размеры
которых находятся в нанодиапазоне (2.7), для коммерческих целей.
3.9
nanofabrication
нанотехнологическое производство. Преднамеренный синтез, изготовление
или контроль наноматериалов, а также отдельные этапы процесса изготовления в
нанодиапазоне (2.7) для коммерческих целей.
[ISO/TS 80004-1:2010, статья 2.11)
nanomanufac
turing
3