ГОСТ ISO/TS 80004-8—2016
литография с коллоидно-кристаллическим шаблоном
7.1.4
литография трехмерная
7.1.1
литография электронно-лучевая
7.1.7
литье керамической ленты
материал нанокомпозиционный
материал наноструктурированный
метод Стобера
микрообработка высокоскоростная
механизм «поспойного-плюс-сстровкового» роста пленки
механизм роста пленки Странского — Крастанова
модифицирование поверхности ионно-лучевое
нанесение покрытия кластерным пучком
нанесение покрытия методом погружения
нановолокно
нанодиапазон
нанокомпозит
нанолитография перьевая
наноматериал
нанообъект
наноструктурирование блок-сополимера
нанотиснение
нанотрубка
нанотрубка углеродная
наночастица
напыление газодинамическое холодное
напыление наночастиц
напыление термическое
напыление термическое суспензионное
НОППС
НПЧ
обработка полосового проката металла сдвигом непрерывная
обработка субтрактивная
озоление сухое
окисление металла анодное
осаждение атомно-слоевое
осаждение веществ модулированное
осаждение в соответствии с наношаблоном
осаждение из газовой фазы физическое
осаждение из газовой фазы химическое
осаждение из газовой фазы химическое каталитическое
осаждение из газовой фазы химическое с применением сканирующего туннельного микроскопа
осаждение ионно-стимулированное
осаждение методом химического восстановления
осаждение многослойное
6.3.5
2.2
2.8
6.4.7
6.5.7
5.9
5.9
5.3
7.2.5
7.2.6
2.3
2.7
2.2
7.1.6
2.4
2.5
6.5.1.2
7.1.17
2.9
2.1
2.6
6.1.1
7.4.4
7.2.16
6.1.6
6.5.4
7.1.18
6.5.4
7.1.27
7.3.8
6.6.2
7.2.2
5.7
6.5.11
7.2.14
7.2.3
7.2.4
7.1.24
7.1.12
7.2.8
3.7
23