ГОСТ ISO/TS 80004-8— 2016
осаждение нановолокон
7.4.3
осаждение наночастиц из раствора
6.4.2
осаждение напылением
7.2.19
осаждение распылением
осаждение фокусированным ионным пучком
осаждение фокусированным электронным пучком
осаждение центробежное
осаждение электроискровое
осаждение электролитическое
осаждение электростатическое послойное
осаждение электростатическое полиэлектролитов послойное
ОФИП
ОФЭП
перенос пленки Ленгмюра — Блоджетт
перенос «поверхность — поверхность»
печать аддитивная
печать микрожидкостная
печать микроконтактная
ПЖК
пиролиз аэрозоля
7.2.18
7.2.12
7.2.11
7.2.17
6.1.3.1
7.2.7
5.6
7.2.15
7.2.12
7.2.11
5.5
4.7
7.1.2
7.1.16
7.1.15
6.2.4
6.2.1.3
6.3.2
7.2.20
6.3.6
6.5.92
6.5.13.1
6.5.3
3.9
3.13
3.1
полимеризация интеркаляционная in-situ
полимеризация на поверхности
помол в шаровой мельнице мокрый
помол в шаровой мельнице сухой
прессование горячее
прессование холодное
производство нанотехнологическое
производство нанотехнологическое «сверху вниз»
производство нанотехнологическое «снизу вверх»
процесс нанотехнологического производства
разложение в трубчатой печи термическое
разложение жидкого вещества термическое
разложение жидкого вещества экзотермическое
разложение инфракрасным излучением термическое
распределение в потоке жидкости
распыление плазменное
распыление жидкого вещества плазменное
расстекловывание
расширение сверхкритических растворов быстрое
рисование с помощью сканирующего зондового микроскопа
РИТ
самосборка
самосборка монослоя
самосборка направленная
3.10
6.2.2
6.2.1.5
6.2.1.1
6.2.3
4.2
6.2.1.2
6.2.1.4
6.5.5
6.1.5
7.1.23
7.3.20
3.11
5.8
3.5
24