ГОСТ ISO/TS 80004-8— 2016
формирование многослойной пленки7.4.2
формирование нановолокон по механизму роста «пар — жидкость — кристалл»6.2.4
формирование пленки Ленгмюра — Блоджетт5.4
фотолитография7.1.20
фотолитография в глубоком ультрафиолете7.1.5
фотолитография в экстремальном ультрафиолете7.1.8
фотолитография фазоконтрастная7.1.21
фрезерование ионно-пучевов7.3.13
функционализация поверхности3.12
ФЭУ7.1.8
ХОГФ7.2.3
ХОГФСТМ7.1.24
штамповка с кручением многократная6.5.10
электроосаждение7.2.7
электропрядение6.3.1
электрораспыление7.2.9
эпитаксия молекулярно-лучевая7.2.13
ЗО-литография7.1.1
26