ГОСТ ISO/TS 80004-8—2016
7.1.14 ионно-проекционная литография: Процесс получения рельефного изо-ion projection
lithography
бражения размерами в нанодиапазоне (2.7) в слое резиста путем воспроизвело-
ния заданного шаблона с помощью пучка ускоренных ионов.
micro-contact
printing
7.1.15 микроконтактная почать: Вид мягкой литографии (7.1.25). в которой ша-
блон после нанесения на него чернил вдавливают в слой материала, покрываю-
щего подложку.
П ри м е ча н и е — Точность воспроизведения изображения зависит от особенностей поверхности подложки и
материала, используемого в качестве чернил.
microfluidic
deposition
7.1.16 микрожидкостная печать. Процесс получения рельефного изображения
путем нанесения жидкого материала на поверхность подложки с помощью печат-
ной головки с каналами, размеры которых находятся в микро- или нанодиапазоме
(2.7). и последующего его отверждения при заданной температуре.
nano-embossing
7.1.17 нанотисненио: Процесс получения рельефного изображения путем вдавли-
вания шаблона с заданным рисунком, размеры которого находятся в нанодиалазо-
не (2.7), в слой резиста, покрывающего подложку.
П ри м ечания
1Термин «нанотиснение» также распространяется на процесс формирования трехмерных наноструктур.
2 При нанотиснении физические свойства материала резиста не изменяются. Процесс нанотиснения отличается
от процесса нанопечатной литографии тем. что получаемое изображение в слое резиста не требует дополни
тельной обработки.
nano-imprint
lithography; NIL
7.1.18 нанопечатная литография. НПЧ: Процесс получения рельефного иэобра-
жения путем вдавливания шаблона (обычно называемого клише, штамп, маска или
трафарет) с заданным рисунком, размеры элементов которого находятся в нано
диапазоне (2.7), в слой резиста, покрывающего подложку, и последующегоего отвер
ждения при заданной температуре или под воздействием светового излучения.
П ри м ечания
1 Нанопечатную литографию относят к процессам печати, а не к процессам литографии (3.6), так как получае
мое изображение зависит от формы и рельефа шаблона.
2 Нанопечатную литографию различают по видам материалов, используемых в качестве резиста. Резист из тер
мопластичного полимерного материала сначала нагревают до температуры плавления, а затем надавливают на
него шаблоном. Резист из термореактивного материала сначала используют в жидком виде, прикладывая к нему
шаблон, а потом нагревают до температуры его отверждения. На негативном фоторезисте изображение
формируют с помощью светового излучения и прозрачного шаблона. Процессы нанопечатной литографии с ис
пользованием фоторезистов некоторые специалисты называют «оптическим импринтингом», «оптическим на
ноимпринтингом» или «печатной литографией «шаг-вспышка».
7.1.19 естественная литография. Процесс формирования структуры объекта илиnatural lithogra-
рельефного изображения путем воспроизведения шаблона, происходящий в при- phy
роде.
П р и м е р — Полосы, образованные на коллагеновых волокнах соединительной ткани, или структу
ры. сформированные из нитей рибонуклеиновой кислоты (РНК).
П ри м е ча н и е — Термин «естественная литография» относят к процессам, в которых воспроизведение изо
бражения происходит с помощью шаблона без применения фокусированного пучка излучения [12j.
7.1.20 фотолитография: оптическаялитография: Процесс получения изображе-photolithography;
ния на подложке путем облучения фоторезиста, покрывающего подложку, электро- optical litho-
магнитным излучением через заданный шаблон. graphy
П р и м е ч а н и е — Как правило, для изготовления шаблона используют материал фоторезиста.
phase-contrast
photolithography
7.1.21 фазоконтрастная фотолитография: Процесс получения изображения раз-
мерами в нанодиапазоне (2.7) и улучшенным разрешением путем облучения фото-
резиста, покрывающего подложку, электромагнитным излучением через шаблон
(фотошаблон) со структурой, сдвигающей фазу проходящего излучения.
12