ГОСТ Р 8.744—2011/ISO/TR 14999-3:2005
4.4 Методика выполнения измерений
Контролируемый образец должен быть измерен в N > 4 равномерно расположенных угловых по
ложениях. Последовательность операций такова:
а) измерение контролируемого образца в первом положении, зафиксированном при его враще
нии; регистрация результатов измерений волнового фронта с вычитанием сферической аберрации и
наклона;
б) поворот контролируемого образца на угол 2xJN. N > 4 и повторение измерения, регистрация
результатов измерений;
в) повторение измерений по пункту б) во всех N положениях контролируемого образца;
г) вычисление среднего из N результатов измерений и регистрация усредненных данных;
д) вычитание полученных данных из результата измерений, полученного в пункте а), и регистра
ция окончательного результата измерений.
5 Измерение качества физически реализованной эталонной поверхности
5.1 Плоскости
5.1.1 Общие сведения
В данном случае необходимы:
а) плоский элемент типа эталонного плоского зеркала;
б) контролируемый плоский элемент или оптическая система с плоским волновым фронтом на
выходе, являющиеся объектами измерений.
Излучение источника распространяется в виде плоской волны, падающей по «нормали» на эта
лон и контролируемый образец. Из-за дефектов обеих поверхностей отраженный волновой фронт име
ет искажения. В результате формируется интерферограмма, отражающая искажения этих волновых
фронтов.
Взаимная юстировка эталона и контролируемого образца позволяет пользователю изменять ин
терференционную картину.
- путем наклона можно увеличивать или уменьшать чувствительность измерений, меняя расстоя
ние между полосами (интервал между двумя полосами соответствует градиенту >74 на поверхности
образца);
- путем перемещения вдоль оптической оси опорного зеркала можно зарегистрировать набор ин
терференционных картин с различным сдвигом полос, по которым можно выделить небольшие и ло
кальные дефекты.
Поскольку пучки отражаются лишь один раз от эталонного зеркала и от контролируемого образца,
то по интерференционной картине трудно обнаружить небольшой дефект на образце. Следует пом
нить. что интерферометр Майкельсона без автоматической расшифровки интерферограмм не спосо
бен выявлять дефекты поверхности с разрешением по глубине, лучшим, чем >710.
5.1.2 Измерение, базирующееся на эталоне плоской поверхности
5.1.2.1 Эталонная плоскость
Для многих приложений эталон плоской поверхности может считаться идеальным, если его ка
чество. по крайней мере, в 10 раз более высокое, чем у контролируемого образца. Поэтому можно
считать идеальной интерферограмму, созданную волновым фронтом, полученным в результате отра
жения излучения таким эталоном, а интерферограмму, полученную в результате отражения излучения
контролируемым образцом. — искаженную его дефектами. Видимые невооруженным глазом искаже ния
интерферограммы отражают аберрации волнового фронта, определяющие качество поверхности
контролируемого образца.
Для определения размеров и координат дефектов на образце и эталоне пользователь может
сравнить результаты первого измерения с результатами одного или нескольких последующих измере
ний. полученных при:
- перемещении эталона относительно образца в плоскости его поверхности;
- вращении эталона относительно образца вокруг оптической оси.
При этом пользователь может (см. рисунки 2 и 3):
- выполнять более одного перемещения в более чем одном направлении;
- выполнять более одного вращения;
- комбинировать перемещение^) с вращением(ями).
5