ГОСТ Р 8.744—2011/ISO/TR 14999-3:2005
Введение
Техническим комитетом ИСО (ISO/ТС 172/SC1) была подготовлена и опубликована под общим
названием ИСО 10110 «Оптика и фотоника — Подготовка технической документации на оптические
элементы и системы» серия международных стандартов «Обозначения в технической документации
характеристик оптических элементов и систем», причем особое внимание уделено части 5 «Допусти
мые отклонения формы поверхности» и части 14 «Допустимые отклонения волнового фронта».
После опубликования серии стандартов и особенно упомянутыхдвух частей экспертам сталооче
видно, что необходимы дополнительная документация и информация о представлении изготовленных
оптических элементов и систем с допустимыми отклонениями. Поэтому ISO/ТС 172/SC1 подготовил и
опубликовал Технический доклад под названием «Интерферометрия волновых фронтов и форм по
верхностей оптических элементов».
При обсуждении было констатировано, что Технический доклад или стандарт впервые имеют от
ношение к волновой оптике, т. е. базируются на физической оптике, а не геометрической. Поэтому по
яснены только основные аспекты, представляющие наибольшие трудности для понимания.
С учетом складывавшейся ситуации, когда в документах ИСО не обсуждались проблемы интерфе
рометрии. естественным было желание сделать изложение предельно доступным. Возникла дискуссия
по вопросу о целесообразности обсуждения таких важнейших направлений, как интерференционная
микроскопия (для наблюдения и описания микрошероховатостей поверхностей оптических элементов),
интерферометрия сдвига (например, для описания подвергшихся коррекции оптических систем), мно
голучевая интерферометрия, формирование и считывание изображений в когерентном излучении или
методы обращения волнового фронта. Решено было отразить и такие методы, как классическая дву
лучевая интерферометрия, а также с распространенными методиками типа голографической интерфе
рометрии. муаровым методом и профилометрией, наряду с Фурье-слектроскопией и поляриметрией.
которые дополняют микроскопическую интерферометрию (микроинтерферометрию).
Для дополнения ИСО 10110 изложение материала содержало описание общепринятых способов
оценки качества оптических элементов. Это было выполнено путем укомплектования первой версии
Технического доклада несколькими дополнительными частями с учетом того, что в ближайшем буду
щем возникнут более жесткие допуски на отклонения от одеальной формы или шероховатости поверх
ности (примерно на два порядка) оптических элементов и систем, предназначенных для работы в экс
тремальном вакуумном ультрафиолете (X = 6—13 нм) в системах микролитографии.
Данный стандарт (ИСО 14999) посвящен методам оценки качества оптических элементов и си
стем в целом, имеющих отношение к производимым ими (элементами и системами) деформациям
волнового фронта. Эти искажения распределены по шкале пространственных частот, однако в данном
стандарте (ИСО 14999) рассматриваются деформации волнового фронта только в низко- и средне-
частотном диапазонах спектра пространственных частот. Высокочастотный участок спектра может быть
измерен только с помощью микроскопа, с использованием результатов измерений рассеянного света
или вообще неоптических способов зондирования поверхности.
Подобное рассмотрение может быть выполнено применительно к любому спектральному диа
пазону излучения, используемого для зондирования поверхности. В ИСО 14999 для наглядности рас
смотрен случай использования видимого излучения. В ряде случаев при измерениях шероховатости
поверхности применяются С02-лазеры с длиной волны 10,6 мкм (после шлифования изделия) или
эксимерные лазеры с длинами волн 193 или 248 им при контроле микролитографической оптики.
Однако в стандарте они упоминаются изредка и не детализируются. Об остальных участках оптическо го
спектра речь в ИСО 14999 не идет.
IV