Хорошие продукты и сервисы
Наш Поиск (введите запрос без опечаток)
Наш Поиск по гостам (введите запрос без опечаток)
Поиск
Поиск
Бизнес гороскоп на текущую неделю c 29.12.2025 по 04.01.2026
Открыть шифр замка из трёх цифр с ограничениями

ГОСТ Р 56662-2015; Страница 29

или поделиться

Ещё ГОСТы из 41757, используйте поиск в верху страницы ГОСТ Р 56102.2-2015 Системы централизованного наблюдения. Часть 2. Подсистема объектовая. Общие технические требования и методы испытаний (Настоящий стандарт распространяется на объектовые подсистемы и входящие в них технические средства и модули в составе вновь разрабатываемых и модернизируемых систем централизованного наблюдения (далее-СЦН) и устанавливает общие технические требования и методы испытаний к ним) ГОСТ IEC 62262-2015 Электрооборудование. Степени защиты, обеспечиваемой оболочками от наружного механического удара (код IK) (Настоящий стандарт касается классификации степеней защиты от внешних механических ударов, обеспечиваемой оболочками для защищаемого оборудования на номинальное напряжение не св. 72,5 кВ. Настоящий стандарт применим к оболочкам оборудования только в части степеней защиты оболочки от механических ударов (далее-ударов)) ГОСТ IEC 61477-2015 Работа под напряжением. Минимальные требования к эксплуатации инcтрументов, устройств и оборудования (Настоящий стандарт распространяется на инструменты, приборы и оборудование, предназначенные для работы под напряжением, и устанавливает для них минимальные требования к техническим характеристикам, производству, отбору, применению и техническому обслуживанию. Установленные в настоящем стандарте требования предназначены для квалифицированных специалистов в целях повышения уровня безопасности при использовании инструментов, приборов и оборудования)
Страница 29
Страница 1 Untitled document
ГОСТ Р 566622015
электроосаждение7.2.7
электропрядение6.3.1
электрораспыление7.2.9
эпитаксия молекулярно-лучевая7.2.13
ЗОитография7.1.1
Алфавитный указатель терминов на английском языке
acid hydrolysis of cellulose
6.4.1
additive processing
7.1.2
adsorption
7.2.1
ALO
7.2.2
anisotropic etching
7.3.1
atomic layer deposition
7.2.2
block copolymer chemical derivatization
6.6.1
block copolymer lithography
7.1.3
block copolymer phase segregation
6.5.1.1
block copolymer templatmg
6.5.1.2
Bosch etching
7.3.2
bottom up nanomanufactunng
3.1
carbon nanotube
2.1
catalytic chemical vapour deposition
7.2.4
CCVD
7.2.4
chemical etching
7.3.3
chemical vapour deposition
7.2.3
chemically assisted ion beam etching
7.3.4
clay dispersion
6.5.2
cluster beam coating
7.2.5
CNT
2.1
co-deposition
3.2
cold gas dynamicspraying
6.1.1
cold pressing
6.5.3
colloidal crystal template lithography
7.1.4
colloidal crystallization
5.1
commumtion
3.3
consheanng continuous confined strip shearing
6.5.4
cryogenic etching
7.3.5
cryogenic milling
6.5.9.1
crystallographic etching
7.3.6
CVD
7.2.3
C2S2
6.5.4
deep reactive Ion etching
7.3.7
deep ultraviolet lithography
7.1.5
devitrification
6.5.5
dip coating
7.2.6
24