ГОСТ Р 56662-2015; Страница 28

или поделиться

Ещё ГОСТы из 41757, используйте поиск в верху страницы

ГОСТ Р 56102.2-2015 Системы централизованного наблюдения. Часть 2. Подсистема объектовая. Общие технические требования и методы испытаний (Настоящий стандарт распространяется на объектовые подсистемы и входящие в них технические средства и модули в составе вновь разрабатываемых и модернизируемых систем централизованного наблюдения (далее-СЦН) и устанавливает общие технические требования и методы испытаний к ним) ГОСТ IEC 62262-2015 Электрооборудование. Степени защиты, обеспечиваемой оболочками от наружного механического удара (код IK) (Настоящий стандарт касается классификации степеней защиты от внешних механических ударов, обеспечиваемой оболочками для защищаемого оборудования на номинальное напряжение не св. 72,5 кВ. Настоящий стандарт применим к оболочкам оборудования только в части степеней защиты оболочки от механических ударов (далее-ударов)) ГОСТ IEC 61477-2015 Работа под напряжением. Минимальные требования к эксплуатации инcтрументов, устройств и оборудования (Настоящий стандарт распространяется на инструменты, приборы и оборудование, предназначенные для работы под напряжением, и устанавливает для них минимальные требования к техническим характеристикам, производству, отбору, применению и техническому обслуживанию. Установленные в настоящем стандарте требования предназначены для квалифицированных специалистов в целях повышения уровня безопасности при использовании инструментов, приборов и оборудования)

Страница 28

Страница 1

Untitled document

ГОСТ Р 56662—2015

спекание наночастиц

6.5.13.2

спекание плазменное электроимпульсное

6.5.13.3

сушка сублимационная

6.1.4.1

сушка распылительная

6.1.4.2

тиснение

7.4.1

ТИСП

7.3.12

травление анизотропное

7.3.1

травление жидкостное

7.3.22

травление избирательное

7.3.21

травление изотропное

7.3.14

травление индуктивно связанной плазмой

7.3.12

травление ионное реактивное

7.3.20

травление ионно-лучевое

7.3.13

травление ионно-лучевое химическое

7.3.4

травление ионно-стимулированное

7.1.13

травление криогенное

7.3.5

травление кристаллографическое

7.3.6

травление пвссивационное

7.3.2

травление плазменное

7.3.18

травление плазмой высокой плотности

7.3.11

травление по трекам излучения

7.3.19

травление распылением

7.3.17

травление реактивное ионное глубокое

7.3.7

травление световым излучением

7.3.16

травление сухое

7.3.9

травление физическое

7.3.17

травление фокусированным ионным пучком

7.3.10

травление фотохимическое

7.3.16

травление химическое

7.3.3

ТФИЛ

7.3.10

УНТ

2.1

ФГУ

7.1.5

ФОГФ

7.2.14

формирование многослойной пленки

7.4.2

формирование нановолокон по механизму роста «пар-жидкость-кристалл»

6.2.4

формирование пленки Ленгмюра-Блоджетт

5.4

фотолитография

7.1.20

фотолитография в глубоком ультрафиолете

7.1.5

фотолитография в экстремальном ультрафиолете

7.1.8

фотолитография фазоконтрастная

7.1.21

фрезерование ионно-лучевое

7.3.13

функционализация поверхности

3.12

ФЭУ

7.1.8

ХОГФ

7.2.3

ХОГФСТМ

7.1.24

штамповка с кручением многократная

6.5.10