Хорошие продукты и сервисы
Наш Поиск (введите запрос без опечаток)
Наш Поиск по гостам (введите запрос без опечаток)
Поиск
Поиск
Бизнес гороскоп на текущую неделю c 29.12.2025 по 04.01.2026
Открыть шифр замка из трёх цифр с ограничениями

ГОСТ Р 56662-2015; Страница 11

или поделиться

Ещё ГОСТы из 41757, используйте поиск в верху страницы ГОСТ Р 56102.2-2015 Системы централизованного наблюдения. Часть 2. Подсистема объектовая. Общие технические требования и методы испытаний (Настоящий стандарт распространяется на объектовые подсистемы и входящие в них технические средства и модули в составе вновь разрабатываемых и модернизируемых систем централизованного наблюдения (далее-СЦН) и устанавливает общие технические требования и методы испытаний к ним) ГОСТ IEC 62262-2015 Электрооборудование. Степени защиты, обеспечиваемой оболочками от наружного механического удара (код IK) (Настоящий стандарт касается классификации степеней защиты от внешних механических ударов, обеспечиваемой оболочками для защищаемого оборудования на номинальное напряжение не св. 72,5 кВ. Настоящий стандарт применим к оболочкам оборудования только в части степеней защиты оболочки от механических ударов (далее-ударов)) ГОСТ IEC 61477-2015 Работа под напряжением. Минимальные требования к эксплуатации инcтрументов, устройств и оборудования (Настоящий стандарт распространяется на инструменты, приборы и оборудование, предназначенные для работы под напряжением, и устанавливает для них минимальные требования к техническим характеристикам, производству, отбору, применению и техническому обслуживанию. Установленные в настоящем стандарте требования предназначены для квалифицированных специалистов в целях повышения уровня безопасности при использовании инструментов, приборов и оборудования)
Страница 11
Страница 1 Untitled document
ГОСТ Р 566622015
П р и м е ч а н и я
1 Процесс испарения применяют дпя осаждения материала на подложку. Процесс испарения лежит а основе про
цессов физического осаждения из газовой фазы (ФОГФ) (7J.
2 Процессы ФОГФ в условиях высокого вакуума происходят при давлении а диапазоне от 10"* до 10 "9 торр. в усло-
виях сверхвысокого вакуума при давлении ниже
1
0-9 торр.
6.2 Термины и определения понятий, относящихся к процессам химического осаждония из
газовой фазы
6.2.1 Термины и определения понятий, относящихся к процессам осаждения в условиях
воздействия пламени
6
.
2
.
1.1
liquid precursor
combustion
экзотермическое разложение жидкого вещества: Процесс получения твердого
агрегированногоматериала, в т. ч. наноматериала (2.4). осаждаемого на подложку в
результатеэкзотермической реакции окисления раствора исходного материала.
(ИСО 19353. статья 3.3. определение термина изменено)
6.2.1.2 плазменное распыление: Процесс получения твердого агрегированного
материала, в т. ч. наноматериала (2.4), осаждаемого на подложку, с применением
плазменной струи, образованной источником ионизированного газа.
6.2.1.3 пиролиз аэрозоля: Процессполучения твердогоагрегированного материа
ла. в т. ч. наноматериала (2.4), осаждаемого на подложку в результатесжигания или
нагревания до заданной температуры распыляемого исходного материала в виде
аэрозоля.
6.2.1.4 плазменное распыление жидкого вещества: Процессполучениятвердого
агрегированного материала, вт. ч. наноматериала (2.4), осаждаемого наподложку в
результате воздействия струи термической (равновесной) плазмы на распыляемый
раствор исходного материала иего последующего охлаждения.
6.2.1.5 термическое разложение жидкого вещества: Процесс получения твердо
гоагрегированного материала, в т. ч. наноматериала (2.4). осаждаемого на подлож ку
в результате нагревания до заданной температуры распыляемого исходного
жидкого материала.
6.2.2 тормическое разложение в трубчатой печи: Химическое осаждение изгазо
вой фазы (7.2.3), осуществляемое в трубчатой печи при заданной и контролируемой
температуре поверхности подложки с исходным материалом.
6.2.3 термическое разложение инфракрасным излучением: Процесс получения
твердого материала, состоящего в т. ч. из ианочастиц (2.6). осаждаемого на подлож ку
в результате нагревания инфракрасным излучением до заданной температуры
исходного газообразного вещества.
6.2.4 формирование нановолокон по механизму роста «пар-жидкостьрис-
талл»; ПЖК: Процессполучения на подложке нановолокон(2.3)изисходного газооб
разного материала с применением жидкого катализатора.
plasma spray
pyrogenesis
solution precursor
plasma spray
thermal spray
pyrolysis
hot wall
tubular reaction
photothermal
synthesis
vapour-liquid-solid
nanofibre
synthesis;
VLS
П р и м е ч а н и е Формирование нановолохон no механизму роста «пар— жидкость—кристалл» происходит при
наличии на кончиках формирующихся нановолокон капель жидкого катализатора, адсорбирующего исходный
газообразный материал до уровня перенасыщения, из которого в дальнейшем происходит рост нановолокон.
6.3 Термины и определения понятий,относящихся к физическим методам синтеза в жидкой
фазе
6.3.1 электропрядение: Процессвытягивания волокон из исходного жидкого мате
риала поддействием сил электрического поля.
6.3.2 интеркаляционная полимеризация in-situ: Процесс получения нанокомпо
зита (2.2). основанный на введении мономера в исходный слоистый неорганический
материал ипоследующей его полимеризации.
6.3.3 диспергирование нанодисперсной системы: Процесс получения наносус
пензии. основанный на предотвращении или замедлении скорости осаждения
наночастиц (2.6) за счет внутреннего или внешнего воздействия (например, сил
6
electrospinning
in-situ
intercalative
polymerization
nanoparticle
dispersion