ГОСТ Р 56662—2015
осаждаемого материала на заданных участках подложки с помощью фокусирован-
ного ионного пучка.
ion induced
deposition
7.1.13 ионно-стимулированное травление: Процесс формирования структуры
объекта или рельефного изображения путем уменьшения концентрации молекул на
заданных участках обрабатываемого материала, покрывающего подложку, с
помощью фокусированного ионного пучка.
7.1.14 ионно-проекционная литография: Процесс получения рельефного изо
бражения размерами в нанодиапазоне (2.7) в слое резиста путем воспроизведения
заданного шаблона с помощью пучка ускоренных ионов.
7.1.15 микроконтактная печать: Видмягкой литографии (7.1.25). вкоторойшаблон
после нанесения на негочернил вдавливают в слой материала, покрывающего под
ложку.
ioninduced
etching
ion projection
lithography
micro-contact
printing
П р и м е ч а н и е — Точность воспроизведения изображения зависит от особенностей поверхности подпожки и
материала, используемого в качестве чернил.
7.1.16 микрожидкостная печать: Процесс получения рельефного изображения
путем нанесения жидкого материала на поверхностьподложки с помощью печатной
головки сканалами, размеры которых находятся в микро- или нанодиапазоне (2.7), и
последующего его отверждения при заданной температуре.
7.1.17 нанотиснение: Процессполучения рельефного изображения путем вдавли
вания шаблонасзаданным рисунком, размеры которогонаходятся в нанодиапазоне
(2.7). в слой резиста, покрывающего подложку.
microfluidic
deposition
nano-embossing
П р и м е ч а н и я
1 Термин «нанотиснение» также распространяется на процесс формирования трехмерных наноструктур.
2 При нанотиснении физические свойства материала резиста не изменяются. Процесс нанотиснения отличается от
процесса нанопвчатной литографии тем. что получаемое изображение в слое резиста не требует дополнитель ной
обработки.
7.1.18 нанопечатная литография; НПЧ: Процесс получения рельефного изобра- nano-imprint
жения путем вдавливания шаблона (обычно называемого клише, штамп, маска или lithography; NIL
трафарет) сзаданным рисунком, размерыэлементовкоторого находятся в нанодиа
пазоне (2.7), в слой резиста, покрывающего подложку, и последующего его отверж
дения при заданной температуре или под воздействием светового излучения.
П р и м е ч а н и я
1 Нанопечатиую литографию относят к процессам печати, а не к процессам литографии (3.6). т. к. получаемое изо
бражение зависит от формы и рельефа шаблона.
2 Нанопечатиую литографию различают по видам материалов, используемых в качестве резиста. Резист из тер
мопластичного полимерного материала сначала нагревают до температуры плавления, а затем надавливают на
него шаблоном. Резист из термореактивного материала сначала используют в жидком виде, прикладывая к нему
шаблон, а потом нагревают до температуры его отверждения. На негативном фоторезисте изображение формиру ют
с помощью светового излучения и прозрачного шаблона. Процессы нанопвчатной литографии с использовани ем
фоторезистов некоторые специалисты называют «оптический импринтинг», «оптический наноимпринтинг» или
«печатная литография «шаг—вспышка».
7.1.19 естественная литография: Процессформирования структуры объекта или natural lithography
рельефногоизображения путем воспроизведения шаблона, происходящийв приро
де.
Пример
—
Полосы, образованные на коллагеновых волокнах соединительной ткани, или структуры,
сф ормированные из нитей рибонуклеиновой кислот ы (РНК).
П р и м е ч а н и е — Термин «естественная литография» относят к процессам, в которых воспроизведение изо
бражения происходит с помощью шаблона без применения фокусированного пучка излучения (12).
7.1.20 фотолитография; оптическаялитография: Процесс получения изображе- photolithography;
ния на подложке путем облучения фоторезиста, покрывающего подложку, электро- optical lithography
магнитным излучением через заданный шаблон.
П р и м е ч а н и е — Как правило, для изготовления шаблона используют материал фоторезиста.
11