ГОСТ Р 56662—2015
микрообработка высокоскоростная
6.5.7
механизм * послойного-птос-остроековогои роста ппенки
5.9
механизм роста пленки Странского-Крастанова
5.9
модифицирование поверхности ионно-лучевое
5.3
нанесение покрытия кластерным пучком
7.2.5
нанесение покрытия методом погружения
7.2.6
нановолокно
2.3
нанодиапазон
2.7
нанокомпозит
2.2
нанолитография перьевая
7.1.6
наноматериал
2.4
нанообъект
2.5
наноструктурирование блок-сополимера
6.5.1.2
нанотиснение
7.1.17
нанотрубка
2.9
нанотрубка углеродная
2.1
наночастица
2.6
напыление газодинамическое холодное
6.1.1
напыление наночастиц
7.4.4
напыление термическое
7.2.16
напыление термическое суспензионное
6.1.6
НОППС
6.5.4
НПЧ
7.1.18
обработка полосового проката металла сдвигом непрерывная
6.5.4
обработка субтрактивная
7.1.26
озоление сухое
7.3.8
окисление металла анодное
6.6.2
осаждение атомно-слоевое
7.2.2
осаждение веществ модулированное
5.7
осаждение в соответствии с наиошаблоном
6.5.11
осаждение из газовой фазы физическое
7.2.14
осаждение из газовой фазы химическое
7.2.3
осаждение из газовой фазы химическое каталитическое
7.2.4
осаждение из газовой фазы химическое с применением сканирующего туннельного микроскопа
7.1.24
осаждение ионно-стимулированное
7.1.12
осаждение методом химического восстановления
7.2.8
осаждение многослойное
3.7
осаждение нановолокон
7.4.3
осаждение наночастиц из раствора
6.4.2
осаждение напылением
7.2.19
осаждение распылением
7.2.18
осаждение фокусированным ионным пучком
7.2.12
осаждение фокусированным электронным пучком
7.2.11
осаждение центробежное
7.2.17
осаждение электроискровое
6.1.3.1
осаждение электролитическое
7.2.7
21