ГОСТ Р 56662—2015
radiation track
etching
7.3.19 травление по трекам излучения: Процесс управляемого удаления поверх-
ностного слоя материала с подложки химическими веществами для формирования
узких каналов из системы пор (треков), образованных после облучения (бомбарди
ровки)частицами или тяжелыми ионами.
Пример — Пористые полимеры, в кот орых узкие каналы образованы предварительным облучением и
последующ ей обработ кой избирательным растворителем.
reactive ion
etching;
RIE
7.3.20 реактивноо ионное травление; РИТ: Плазменное травление (7.3.18) лото-
ком заряженных ионов плазмы, ускоренных отрицательным потенциалом напряже-
ния, возникающим в результате подачи на электрод, на котором размещена
подложка, высокочастотного напряженияотносительно изолированныхстенокреак
тора.
П р и м е ч а н и е — Поток заряженных ионов плазмы генерируют в специальных условиях (при заданных значе ниях
давления и напряженности электромагнитного поля). Высокоэнергичные ионы бомбардируют поверхность
материала подложки, а свободные радикалы вступают в химическую реакцию с поверхностными атомами материа ла
подложки, удаляя поверхностные слои. По сравнению с жидкостным травлением (7.3.22), которое относят к изо
тропным процессам травления. РИТ позволяет осуществлять удаление материала с подложки по различным
пространственным направлениям и с разной скоростью.
7.3.21 избирательное травление: Процесс управляемого удаления поверхнос- selective etching
тного слоя материала с подложки, происходящий с различной скоростью на разных
участках поверхности с различным химическим составом.
Пример
—
Водные раст воры под воздействием вы сокочаст от ных электромагнитных полей удаляют
с подложки оксид кремния S102и не удаляют кремний.
7.3.22 жидкостное травление: Процесс управляемого удаления поверхностного wet etching
слоя материалас подложки поддействием жидких химических веществ.
7.4 Термины и определения понятий, относящихся к процессам печати и нанесения
покрытий
7.4.1 тиснение; импринтинг: Процесс получения рельефного изображения путем embossing;
вдавливания шаблона с заданным рисунком ослой обрабатываемого материала.imprinting
7.4.2 формирование многослойной пленки (нанотехнологии): Процесс получе
ния многослойной пленки путем соединения вальцовкой нескольких отдельных пле
нокна подложке.
7.4.3 осаждение нановолокон: Процессполучения покрытияили структуры объек
та осаждениемнановолокон (2.3) израствора наподложкуили еезаданныеучастки.
multilayerfilm
process
nanofibre
precipitation
7.4.4 напыление наночастиц: Процесс получения покрытия из наночастиц (2.6), nanoparticle spray
при соударении которых с подложкой происходит их соединение, с применением coating
распыляемого раствора, плазмы, кластерного пучка или из другого источника нано
частиц.
16