ГОСТ Р 52250—2004
8.11.2 Подготовка к испытанию
8.11.2.1 Приготовление раствора фоторезиста
Навеску испытуемого фоторезиста отвешивают из пипетки в мерную колбу, растворяют и тщатель
но перемешивают.
Массу навески фоторезиста, состав и количество растворителя указывают в ТУ.
8.11.2.2 Определение поправки к шкале оптической плотности спектрофотометра
Измеряют на спектрофотометре оптические плотности />375 двух калибровочных растворов, при
готовленных из параллельных навесок хромовокислого калия, относительно раствора гидроксида калия
молярной концентрации с (КОН) = 0,05 моль/дм3 в кюветах толщиной поглощающего свет слоя 10 мм в
максимуме оптического поглощения калибровочного раствора (Хтах = 375 нм).
Поправку к шкале оптической плотности спектрофотометра Доопределяют по формуле
ДО = 0 ,9 9 - 0J75cp,(9)
где 0,99 — значение стандартной оптической плотности калибровочного раствора;
Oj75cp— среднеарифметическоедвух параллельных значений оптической плотности калибровочных
растворов, расхождение между которыми не должно превышать 0.02.
8.11.3 Проведение испытания
Измеряют оптическую плотность приготовленного по 8.11.2.1 раствора фоторезиста относительно
растворителя в устанавливаемом в ТУ интервале длин волн и при толщине поглощающего свет слоя.
По полученным данным находят оптическую плотность раствора фоторезиста в максимуме погло
щения — йтлх.
8.11.4 Обработка результатов
Массовую долю НХД-rpynn в фоторезисте в пересчете на сухой остаток
Л
/, %, вычисляют по
формуле
(10)
_
249,2(/)
Л
1|Х
+Д/))100 •0.1
.....
М --------------
i
a
s
,?- ;1,,-----------100,
где 249.2 —
4 » .*“
Д
D —
молярная масса НХД-rpynn, г/моль;
оптическая плотность раствора фоторезиста в максимуме поглощения;
поправка к шкале оптической плотности спектрофотометра:
8025 — молярный коэффициент экстинкции фрагмента молярной массой 249.2 r/моль при длине
волны (400
±
3) нм, см2/моль;
т —
масса навески испытуемого резиста, г;
Р — массовая доля сухого остатка. %;
I — толщина поглощающего свет слоя. см.
За окончательный результат принимают среднеарифметическое значение двух параллельных
определений, абсолютное расхождение между которыми не должно превышать 0.5 %.
8.11.5Результаты испытания считают положительными, если массовая доля НХД-rpynn соответ
ствует требованиям ТУ.
8.12Контроль массовой доли микропримосой металлов
Массовую долю микропримесей металлов в резисте определяют по ГОСТ 22001 с дополнениями
и уточнениями, приводимыми в ТУ.
Результаты считают положительными, если массовая доля микропримесей металлов соответст
вует нормам, устанавливаемым в ТУ.
8.13Контроль микронеровностей пленки резиста
8.13.1 Метод основан на измерении расстояния между впадинами и выпуклостями на поверхности
пленки фоторезиста.
8.13.2 Применяемое оборудование (профилограф-профилометр), материалы и реактивы указы
вают в ТУ.
8.13.3 Подготовка к проведению испытаний
Подготовленную согласно 8.1.6 пластину помещают на предметный столик профилографа-профи-
лометра.
Режим работы профилографа-профилометра (вертикальное увеличение, скорость трассирования
датчика, скорость движения бумаги на записывающем приборе) указывают в ТУ.
20