ГОСТ Р ИСО/АСТМ 51431-2012
3.1.21 оптимальная толщина (optimum thickness) (Дор,): Глубина одно
родного материала, на которой поглощенная доза равна поглощенной дозе на
поверхности входа электронного пучка (см. рисунок 3).
3.1.22опенкатехнологическогокачества(PQ)(performance
qualification): Получение и документальное оформление свидетельств, что
оборудование и аппаратура, при монтаже и работе на нем согласно методи
кам работы стабильно имеет эксплуатационные характеристики, соответст
вующие заранее установленным критериям, и благодаря этому производит
продукцию, соответствующую техническим условиям.
3.1.23 практическая глубина проникновения электронного пучка
(practical electron beam range) (Др): Глубина от входной поверхности рефе-
ренсного материала (т.е. на которой электронный пучок входит в материал),
где касательная в точке наибольшей крутизны (точке перегиба) на почти
прямой спадающей части кривой распределения дозы по глубине пересекает
линию экстраполированного фона рентгеновского излучения (см. рисунок 3).
Дополнительные пояснения см. в руководстве ISO/ASTM 51649.
3.1.23.1Замечание - При энергиях, меньших примерно ЮМэВ, фон
рентгеновского излучения, создаваемый падающими электронами, незначи
телен для материалов, состоящих из элементов с низкими атомными номера
ми (например, пищевых продуктов). В этом случае Rp= Дсх(см. 3.1.16).
3.1.24первичныйэталонныйдозиметр(primary-standard
dosimeter): Дозиметр наивысшего метрологического качества, установленный
и поддерживаемый в качестве эталона поглощенной дозы национальной или
международной лабораторией эталонов (см. руководство ISO/ASTM 51261).
3.1.25 технологическая загрузка (process load): Объем материала с за
данной конфигурацией загрузки продукта, облучаемый как единый объект.
3.1.26 технологический прогон (для облучения в непрерывном по
токе или в режиме перемещения с остановками) (production run (for conti
nuous-flow and shuffle-dwell irradiations)): Серия технологических загрузок,
состоящих из материалов и продуктов, имеющих сходные характеристики
13