ГОСТ Р 8.743—2011/ISOH-R 14999-1:2005
Введение
Техническим комитетом ISO.TC 172/SC1 была подготовлена серия международных стандартов
«Обозначения в технических чертежах оптических элементов и систем», опубликованная как
ИСО 10110 под общим названием «Оптика и фотоника — Разработка технической документации на
оптические элементы и системы». После предварительного опубликования этой серии и особенно ее
части 5 «Допуски на отклонения формы поверхности» и части 14 «Допуски на деформации волнового
фронта» стала очевидной потребность в дополнительной документации, регламентирующей необхо
димую для описания изготавливаемых оптических изделий информацию с учетом допусков. В связи с
этим ISO/ТС 172/SC1 решил подготовить технический доклад «Интерферометрия оптических волно
вых фронтов и форм поверхностей оптических элементов».
В ходе дискуссий было выяснено, что впервые технический доклад или международный стан
дарт, подготавливаемый ИСО, имеетотношение к волновой оптике, т. е. базируется на основах не гео
метрической. а физической оптики.
Этот проект стандарта (техническийдоклад) освещает первоочередные потребности специалис
тов в части определения качества оптических элементов и в целом оптических систем, причем основ
ное внимание уделено погрешностям определения параметров и искажениям волнового фронта. Эти
погрешности и искажения охватываютвсю шкалу пространственныхчастот, однако вдокладе их спектр
ограничен только его низкочастотным и среднечастотным диапазонами. Высокочастотные погрешности и
искажения волнового фронта могут быть определены либо методами микроскопии, либо путем изме
рения характеристик рассеянного света или же с использованием неоптических способов зондирова
ния поверхности.
Аналогичное ограничение было введено и применительно к диапазону длин волн излучения
источников, используемых в интерферометрах: в ИСО 14999 рассматриваются методы испытаний и
измерений восновном в видимомдиапазоне оптического спектра. В некоторых случаях при исследова
нии необработанных поверхностей, полученных после шлифования, применяются С02-лазеры с дли
ной волны 10.6 мкм, а при контролеоптики, используемой в микролитографии. — эксимерные лазеры с
длинами волн - 193 и - 248 нм. Однако в данном докладе эти спектральныедиапазоны упоминаются в
редких случаях, а остальные участки оптического спектра остаются вне рассмотрения.
IV