ГОСТ IEC 60519-7—2016
3.2 элоктронно-лучевая пушка (electron (beam)gun): Система генерирования, формирования и
ускорения одного или больше электронных пучков.
(IEV 841-30-08. измененный)
3.3 анод (электронно-лучовой пушки) [anode (of an electron gun)]: Электрод, способный
выделять и ускорятьэлектроны из среды низкой проводимости.
[IEV841-22-31. измененный)
3.4 катод (электронно-лучевой пушки) [cathode (of an electron gun)]: Электрод, способный
испускать и ускорять электроны из среды низкой проводимости и также принимающий положительные
носители, если необходимо.
[IEV841-22-32, измененный)
3.5 ускоряющее напряжение пучка (beam accelerating voltage): Разность потенциалов между
катодом и анодом, чтобы генерироватьэлектрическое поледля ускорения электронов.
[IEV841-30-29]
3.6 высоковольтный источник питания (high-voltage power supply): Источник напряжения
ускорения и токаэмиссиидля электронно-лучевой пушки.
3.7 обратный провод (return conductor): Электрическая объединяющая линия между высоко
вольтным источником питания (положительный полюс) ианодной частью системы электронно-лучевой
пушки, включая вакуумную камеру вокругобрабатываемого изделия.
3.8 блокировка (interlock): Устройство, которое предотвращает ввод в действие механизма,
когда существует какая-либо форма возможного нанесения вреда или опасность.
3.9 вакуумная камора (vacuum chamber): Закрытое пространство вакуумной установки, создан
ноетаким образом, что оно можетвыдерживатьразряженную атмосферу внутри, в которой размещает
ся изделие, подлежащее обработке.
3.10 камера электронно-лучовой пушки (electron gun chamber): Вакуумная камера, в которой
располагается электронная пушка.
П р и м е ч а н и е — Эта камера может быть отделена от обрабатываемого изделия мембраной, так что
между электронной пушкой и обрабатываемым изделием может быть установлен перепад давлений.
3.11 система отклонения электронного пучка (electron beam deflection system): Электромаг
нитная катушка или система отклоняющих электродов, применяемая для того, что бы размещать пучок в
разные рабочие позиции или перемещать лучокпо поверхности нагрева загрузки.
[IEV841-30-25]
3.12 системазагибания электронного пучка (electron beam bending system): Электромагнитная
катушка или постоянный магнит для изменения направления электронного пучка снаружи электронной
пушки.
3.13 системафокусированияэлектронного пучка(electronbeamfocusing system): Электромаг
нитная катушка, система катушек или обкладокконденсаторовдля фокусирования пучка электронов по
поверхности нагрева загрузки
[IEV841-30-27]
4 Компоненты электронно-лучевых установок
Электронно-лучевая установка в основном состоит изследующего:
a) электронно-лучевая пушка;
b
) высоковольтный источникпитания:
c) система фокусирования и отклонения электронного пучка, включая необходимое электропи
тание и устройства управления;
d) система загибания электронного пучка
e) технологическая камера и загрузка—разгрузка обрабатываемого изделия
f) вакуумная установка;
д) системауправления.
h) оборудование (электроснабжение, охлаждающая жидкость, пневматика, гидравлика ит. д).
П р и м е ч а н и е — Некоторые компоненты имеются только е специальных установках, например, во мно
гих установках отсутствует система загибания пучка электронов.
2