ГОСТ Р 54473—2011
2
3 Термины и определения
В настоящем стандарте применены следующие термины с соответствующими определениями:
3.1 нанопокрытия на основе алмаза: Алмазоподобное наноструктурное покрытие (DLC — Dia-
mond Like Coating), представляющее собой тонкую аморфную или кристаллическую пленку на основе
углерода.
3.2 нанопокрытия на основе кубического нитрида бора: Наноструктурное покрытие
(CBN — Cubic Boron Nitride), представляющее собой тонкую кристаллическую пленку на основе куби-
ческого нитрида бора.
3.3 наноструктурное покрытие: Покрытие, состоящее из структурных элементов размерами не
более 100 нм.
3.4 толщина нанопокрытия: Толщина тонкопленочного нанопокрытия не более 4 мкм, уклады-
вающаяся в допуски на размеры изделия.
3.5 нанотвердость: Свойство поверхностного слоя оказывать сопротивление упругой и пласти-
ческой деформации (или разрушению) при местных контактных воздействиях со стороны другого, бо-
лее твердого тела (индентора), имеющего определенные форму и размер.
3.6 коэффициент трения: Количественная характеристика силы, необходимой для скольжения
или движения одного материала по поверхности другого.
3.7 температурная стойкость: Максимальная температура на поверхности покрытия, при кото-
рой начинается разрушение покрытия или изменяются физико-механические свойства покрытия (адге-
зия, нанотвердость и др.).
3.8 основа: Поверхность материала изделия, на которую наносится нанопокрытие.
3.9 адгезия: Характеристика прочности сцепления покрытия с поверхностью основы.
3.10 трещиностойкость: Способность твердых тел воспринимать действующие на них нагрузки
без образования трещин.
4 Характеристики
4.1 Нанопокрытия наносят:
- на основе алмаза — методом PVD (Phisical Vapour Deposition) — конденсацией испаренного
материала в вакууме, CVD (Chemical Vapour Deposition) — химическим процессом осаждения из паро-
газовой среды или PVD + CVD (РСVD);
- на основе кубического нитрида бора — методом PVD (Phisical Vapour Deposition) — конденсаци-
ей испаренного материала в вакууме.
4.2 Основными характеристиками нанопокрытий являются:
- цвет покрытия;
- адгезия и трещиностойкость;
- толщина;
- нанотвердость;
- коэффициент трения;
- температурная стойкость.
5 Требования к поверхности основы
5.1 Параметры шероховатости поверхности основы под нанопокрытия должны быть не более
Ra 0,32 мкм по ГОСТ 2789.
5.2 Поверхность основы, подлежащая нанесению покрытий, не должна иметь прижогов, заусен-
цев, сколов, выкрошенных мест, затуплений по рабочей части, окисных пленок, оксидированной по-
верхности, остатков солей после термообработки, физических и химических загрязнений.
Методы подготовки рабочей части изделий перед покрытием приведены в приложении А.
5.3 Поверхность основы перед покрытием следует подвергать ультразвуковой очистке (УЗО) в мо-ечном
оборудовании с применением поверхностно-активных веществ (ПАВ) и других моющих средств.
Рекомендуемое моечное оборудование приведено в приложении Б.
5.4 После очистки поверхности в моечном оборудовании изделие не должно находиться на от-
крытом воздухе более 2 ч, или его необходимо поместить в герметичные емкости (боксы).