ГОСТ IEC 61643-12—2022
*-
ран
-
где L
pal
длина низковольтной воздушной линии: 0,07 км (70 м = 10 + 20 + 40 м, 40 м— максимальная длина
для самой удаленной стойки);
длина высоковольтной воздушной линии: 0,93 км (эта длина определяется тем, что L
pal
+ LPAH =
= 1 км);
^
pcl
длина низковольтного подземного кабеля: 0 км;
^-
рсн
длина высоковольтного подземного кабеля: 0 км.
CRL = 85 • F/(LP•
Ng) =
85 • 1/(0,512 • 1) = 166.
В этом случае УЗИП должно быть установлено на стороне низкого напряжения трансформатора высокого/
низкого напряжения или альтернативно — в главном шкафу. Кроме того, из-за наведенных импульсов напряжения в
проводке между шкафом и стойками рекомендуется установить дополнительные УЗИП на стойках.
Н.2.8 Пример 6—Химическое предприятие
Высоковольтная воздушная линия длиной 500 мраспределяет электроэнергию на электрической подстанции
химического предприятия через 100-метровый подземный высоковольтный кабель, см. рисунок Н.З. Электрическая
подстанция (5 * 5 м, высота = 3 м) подает низковольтную электроэнергию в административное здание (10 * 10 м,
высота = 6 м) и здание химического производства (100 * 20 м, высота = 6 м плюс дымоход высотой = 9 м). Это
сельская местность. A/G=
1
и F = 1.
500 м
2
о
<ГЧ|
Рисунок Н.З — Пример химического предприятия
Поскольку площадка является промышленной, на низковольтной стороне электростанции должно быть пред
усмотрено низковольтное УЗИП, чтобы выполнить требование е) Н.1.1.
Поскольку химическое предприятие (см. рисунок Н.З) может оказывать влияние на окружающую среду,
IEC 62305-2 также следует использовать для химического предприятия, чтобы выполнить требование Ь) Н.1.1. На
самом деле упрощенный метод оценки риска применим только для административного здания.
Для удобства сравнения упрощенная версия, а также IEC 62305-2 будут применяться для трех сооружений,
см. таблицу Н.2. Рассчитан только экономический риск
(R4
согласно IEC 62305-2). Влияние химического предпри
ятия на окружающую среду не учитывается в настоящем примере.
Таблица Н.2 — Упрощенный метод
123
ЭлектростанцияХимическое предприятиеАдминистративное здание
*-PAL
000
*-PCL
00,30,05
^РАН
0,500
^-РСН
0,1
00
106