Хорошие продукты и сервисы
Наш Поиск (введите запрос без опечаток)
Наш Поиск по гостам (введите запрос без опечаток)
Поиск
Поиск
Бизнес гороскоп на текущую неделю c 29.12.2025 по 04.01.2026
Открыть шифр замка из трёх цифр с ограничениями

ГОСТ 9733.3-83; Страница 4

или поделиться

Ещё ГОСТы из 41757, используйте поиск в верху страницы ГОСТ 25702.11-83 Концентраты редкометаллические. Метод определения серы Raremetallic concentrates. Method for the determination of sulphur (Настоящий стандарт распространяется на редкометаллические концентраты и устанавливает йодометрический метод определения серы (при массовой доле от 0,02 до 0,15%) в ниобиевом (пирохлоровом) и рутиловом концентратах) ГОСТ 22816-83 Сборочные единицы и детали трубопроводов. Заглушки фланцевые со вставками на Ру св. 10 до 40 МПа (св. 100 до 400 кгс/см кв.). Конструкция и размеры Assembly units and pipeline parts. Flanged plugs with inserts for Pnom 9,81-40 MPa (100-400 kgf/sm sq). Construction and dimensions (Настоящий стандарт распространяется на фланцевые заглушки со вставками для трубопроводов с линзовым уплотнением, применяемых на предприятиях отраслей нефтехимической промышленности и для производства минеральных удобрений) ГОСТ 22198-83 Штоки полые буферов для штампов листовой штамповки. Конструкция и размеры Buffer hollow rods for sheet stamping dies. Design and dimensions (Настоящий стандарт устанавливает конструкцию и размеры штоков)
Страница 4
Страница 1 Untitled document
Схема расположения рабочих проб
и эталонов для метода 2
ГОСТ 9733.3-83 С 4
А В — светонепроницаемое покрытие, вра
щающееся вокруг оси хл,так. чтобы мож
но было поднимать его и накладывать на
одно и то же место на пробе и эталонах;
СД — второе покрытие;
ЕФтретье покрытие
Черт. 2
ника света. При испытании толстых текстильных материалов под
эталоны подкладывают, например, полоски картона.
Раад. 2. (Измененная редакция. Изм. ЛЬ I).
3. ПРОВЕДЕНИЕ ИСПЫТАНИЯ
ГОСТ 97330*83ЫТаИИИ СЛвДует соб;1Юдать общие требования по
3.2. Условия облучения
Пробы и эталоны облучают » установке, имеющей характе
ристику в соответствии с раэд.
1
(п. 1-5). Неравномерность в ос
вещенности поверхности, покрытой пробами и эталонами, не дол
жна превышать ±10 % от среднего значения.
17