ПРИЛОЖЕНИЕ D
(обязательное)
ГОСТ Р 51330.17-99
Метод облучения образцов компаунда при испытаниях на светостойкость
D.1 Общие положения
Испытуемые образцы облучают лабораторным источником света в контролируемых условиях окружающей
среды.
Процедура облучения может включать измерение энергетической освещенности Е (далее— освещенность) и
энергетической экспозиции Н (далее— экспозиция) поверхности образца.
D.2 Испытательное оборудование
D.2
./
Л а б о р а т о р н ы й и с т о ч н и к с в е т а
В качестве лабораторного источника света используют дуговую ксеноновую лампу.
Для моделирования естественного облучения, близкого к дневному освещению у поверхности земли (метод А),
энергия излучения должна быть отфильтрована согласно таблице D.I, а для облучения, (’низкого к дневному освеще
нию через оконное стекло (метод В),— согласно таблице D.2.
Т а б л и ц а D.I — Относительная спектральная освещенность (метод А )
Алина волл и
Л, л.м
Относительная спектральная освещенность, %
2 9 0 <
X*
8 0 0
100
Л <
290
0
2 9 0 <3 2 00 .6 ± 0 .2
3 2 0 <
Л
s 3604 ,2 ± 0 ,5 3
6 0 < \ £ 4006 .2 ± 1.0
Т а б л и ц а D.2 — Относительная спектральная освещенность (метод В)
Л,\ина волки X, п.иОтносительная спектральная освещенность, %
300
<
800too
0
<0,1
3,0 ±0,5
Л S
300
300 <
X 5
320
320 < X s 360
360 <
X
£ 400
6.0 ± 1.0
Освещенность поверхности испытуемого (Изразца должна составлять 550 Вт/м-’ в полосе пропускания
290 нм
s Ь
800 нм.
Освещенность не должна изменяться более чем на 10% для любых двух точек плоскости держателя, парал
лельной осилампы. Если это невозможно, образцы должны периодически переставляться, чтобы обеспечить эквива
лентные периоды облучения в каждом месте.
D.2.2 И с п ы т а т е л ь н а я к а м е р а
Испытательная камера содержит раму с держателями образцов и обеспечивает, при необходимости, возмож
ность обдува образцов воздухом для регулирования температуры.
Лампа должна быть расположена относительно образцов так. чтобы освещенность поверхности образцов
соответствсзвала требованиям D.2.1.
При появлении озона в процессе работы лампы, она должна быть изолирована от испытуемых образцов и
технического персонала.
Чтобы уменьшить влияние любого эксцентриситета в лампе, или при использовании в камере далее одной
лампы для увеличения освещенности, равномерность облучения может быть обеспечелш вралцением рамы с образцами
вокруглампы (ламп) и. при необходимости, периодическим изменением наложения каж<к>го образца.
Можно также вращать держатели образцов относительно их собственной оси. облучая таким образом ту
сторону образца, которая не била ранее облучена.
D.2.3 Р а д и о м е т р
Для и:змерения освещенности поверхности и экспозиции образцов в комплект испытательной установки мо
жет входить радиометр (фотозлеклпронный датчик).
15