ГОСТ 30852.17—2002
Приложение D
(обязательное)
Метод облучения образцов компаунда при испытаниях на светостойкость
D. 1 Общие положения
Испытуемые образцы облучают лабораторным источником света в контролируемых условиях окружаю
щей среды.
Процедура облучения может включать измерение энергетической освещенности Е (далее — освещен
ность) и энергетической экспозиции Н (далее — экспозиция) поверхности образца.
0.2 Испытательное оборудование
D.2.1 Лабораторный источник света
В качестве лабораторного источника света используют дуговую ксеноновую лампу.
Для моделирования естественного облучения, близкого к дневному освещению у поверхности земли (ме
тод А), энергия излучения должна быть отфильтрована согласно таблице D.1. а для облучения, близкого к
дневному освещению через оконное стекло (метод В). — согласно таблице D.2.
Таблица D.1 — Относительная спектральная освещенность (метод А)
Длина волныА.ни
Относительная спектральная освещенность, %
290< х< 800
100
л< 290
0
290 < Я S 320
0.6 ± 0.2
320 < /.S 360
4.2 ±0.5
360 < A S 400
6.2 ± 1.0
Таблица D.2 — Относительная спектральная освещенность (метод В)
Длина волныА. ни
Относительная спектральная освещенность. %
300 < kS 800
100
kS 300
0
300 < k i 320
<0.1
320 < k i 360
3.0 ± 0.5
360< k i 400
6.0 ± 1.0
Освещенность поверхности испытуекюго образца должна составлять 550 Вт/м2 в полосе пропускания
290 нм £
a
S 800 нм.
Освещенность не должна изменяться более чем на 10%, для любых двух лючек плоскости держателя,
параллельной осилампы. Если это невозможно, образцы должныпериодически переставляться, чтобы обеспе
чить эквивалентные периоды облучения в каждом месте.
D.2.2 Испытательная камера
Испытательная камера содержит раму с держателями образцов и обеспечивает, при необходимости,
возможность обдува образцов воздухом для регулирования температуры.
Лампа должна быть расположена относительно образцов так. чтобы освещенность поверхности об
разцов соответствовала требованиям D.2.1.
При появлении озона в процессе работы лампы она должна быть изолирована от испытуемых образцов
и технического персонала.
Чтобы уменьшить влияние любого эксцентриситета в лампе, или при использовании в камере более од
ной лампы дляувеличения освещенности, равномерность облучения может быть обеспечена вращением рамы
с образцами вокруглампы (ламп) и. при необходимости, периодическим изменением положениякаждого образца.
Можно также вращать держатели образцов относительно их собственной оси. облучая таким образом
ту сторону образца, которая не была ранее облучена.
15