ГОСТ Р 52862—2007
большая диффузность звукового поля в небольшой реверберационной камере может быть достигнута путем
подвешивания на стену отражающих поверхностей (панелей) с высоким сопротивлением усталости. Следует
отметить, что размеры панели по отношению к размерам стены камеры должны быть сравнительно небольшими
для того, чтобы не нарушить свойства камеры в области низких частот за счет эффекта дробления объема камеры.
Другой метод повышения диффузности звукового поля в малых камерах состоит в подвешивании вращающегося
объекта неправильной формы так. чтобы постоянно изменять направления отражения звука. Эти устройства осо
бенно полезны, если требуются испытания на низких частотах.
Дополнительно следует отметить, что испытания на низких частотах часто базируются на эксперименталь
ных данных, которые могут быть получены только на небольшом числе дискретных точек, так что стандартные
отклонения этих данных могут быть велики. Это замечание следует учитывать при проведении низкочастотных
акустических испытаний и анализе их результатов.
А.1.4 Поглощение в реверберационной камере
Коэффициент поглощения поверхностей реверберационной камеры должен быть достаточно мал. чтобы
обеспечить продолжительность реверберации, достаточную для создания отраженного звукового поля. Средний
коэффициент поглощения всех поверхностей реверберационной камеры в требуемомдиапазоне частот недолжен
превышать 0.06. Этого можно достичь путем использования в конструкции помещения металлических или гладких
бетонных стен, с применением эпоксидных или других не поглощающих лакокрасочных покрытий. При этом метал
лические стены должны быть достаточно массивными, неупругими и обладать высоким демпфированием для
предотвращения резонанса (поскольку это приведет к поглощению энергии акустического поля) в требуемом диа
пазоне частот испытаний и измерений.
А.1.5 Проверочные точки
Расстояниемеждупроверочнойточкой иповерхностью образца должно быть большеполовины длины волны
нижней частоты диапазона измерений или половины расстояния от образца до стены камеры (применяют меньшее
изуказанных значений). При необходимости расположить микрофон на расстоянии меньшем, чем половинадлины
волны, следует учитывать возможность искажения результатов испытания вследствие отражения от образца.
На рисункахА.1 — А.З приведены типичные примеры расположенияточек на воображаемойповерхности вок
руг образца, микрофонов вокруг тонкого цилиндрического образца и микрофонов вокруг образца соответственно.
Во всех случаях расположение микрофоновдолжно удовлетворять требованиям испытаний.
А -д л м ю ли мотмЯтрибуимойчистоты
РисунокА.1— Типовое расположение микрофонов вокруг образца
15