17
а) эллипса с размерами, приведенными на рисунке В.1, если площадка оборудована поворотной платформой для размещения испытуемого ТС;
б) круга с размерами, приведенными на рисунке В.2, если испытуемое ТС устанавливают стационарно и антенну перемещают вокруг него.
В.3 Измерительная аппаратура и обслуживающий персонал должны находиться вне площадки (под площадкой).
В.4 Проводящую поверхность пластины заземления выполняют из металла (листовое покрытие, перфорированный металл, проволочная сетка, решетка и т.д.).
Размеры отверстий щелей, разрывов в металлическом покрытии не должны превышать 0,1λ, где λ - длина волны, соответствующая максимальной частоте измерений. При выполнении покрытия из отдельных листов рекомендуется обеспечить по стыкам листов непрерывный контакт (например, методом сварки или пайки), зазоры в соединении не должны превышать 0,1λ.
Металл допускается покрывать непроводящим материалом минимальной толщины (доски, асфальт и т. п.).
В.5 Допустимые значения величин неровностей проводящей поверхности, приведены в таблице В.1.
Таблица В.1
Измерительное расстояние, м
|
Высота источника ИРП
|
Максимальная высота
|
Допустимое значение величины неровности
|
|
h1, м
|
приемной антенны h2, м
|
в долях длины волны
|
в сантиметрах для частоты1000 МГц
|
3
10
30
|
1
1
2
|
4
4
6
|
0,15
0,28
0,49
|
4,5
8,4
14,7
|
В.6 Провода, питающие испытуемое ТС и поворотную платформу, прокладывают под проводящей поверхностью площадки или, в крайнем случае, непосредственно по проводящей поверхности и прикрепляют к ней. Провода рекомендуется прокладывать перпендикулярно к оси измерения.
В.7 Для обеспечения круглогодичной эксплуатации площадки на ней может устанавливаться защитное покрытие, закрывающее только испытуемое ТС или всю площадку. Все элементы покрытия (несущая конструкция, плоскости, крепеж, двери, рамы) изготавливают из диэлектрических материалов - тканей, пластиков, обработанного дерева. Материал не должен абсорбировать влагу. Конструкция должна обеспечивать возможность быстрого удаления воды, льда, снега, пыли, грязи.
В.8 Металлическая поверхность поворотной платформы должна быть на одном уровне с поверхностью площадки. По возможности должен обеспечиваться непрерывный электрический контакт между ними.
14